优越的光刻机、离子注入设备等配套设施。
可能离子源这样的设备，对于北美来说，问题不大。
但光刻机里面的两大核心部件，光源和镜头组件，就绝对是一个系统的工程了。
镜头组件是光学层面的系统技术，涉及面十分广泛。
而光源这东西就更不用说了。
原时空的历史上，阿斯麦公司成立的时候，他们一开始使用的光刻光源是汞蒸气灯。
这东西是通过将电通过含有汞的灯泡来产生光的。
也即是说，电流加热汞，直到它变成一种等离子体，发出各种波长的光。
然后利用干涉滤光片选择所需要的波长。
可是这种光源的光刻机，也仅仅可以支持一微米，也就是一千纳米的芯片制造工艺罢了。
而陈国华所需要的是一微米以下，大几百纳米或者是小几百纳米的工艺。
众所周知，一个指甲盖大小的芯片内，装下的晶体管越多，那么其性能自然是更加优越的。
而现如今的IBM公司也好，西门子公司也罢，甚至是仙童半导体公司，他们目前能够实现的芯片技术。
仅仅只是能够在芯片里面内置十几二十，或者是几十枚晶体管而已。
这样的芯片，性能也不是不行，但距离陈国华想要达到每秒上亿次运算速度的计算机，还差了十万八千里。
可不是说，有了一千万每秒运算速度的计算机，就可以利用芯片叠加的技术，把计算机的功能调高到上亿次。
要知道，这样的叠加，对计算机其他元器件的负荷是非常重的。
而且晶体管本身的缺点是故障率高和抗干扰差，这两点问题想要解决掉的话，可不是那么容易的呢。
去年，更准确来说，前年冬天陈国华前往哈工大出差的时候，当时就是要解决晶体管的这两大问题。
当时面临的便是晶体管寿命短和不稳定这两个问题，其实就是故障率高和抗干扰差。
后来是利用隔离-阻塞振荡器来解决这个问题，但是现在呢？
晶体管都要安装到芯片里面了，难道也还利用这样的技术吗？
明显是不能够的，技术需要更新迭代，否则的话，对计算机小型化和性能的提高，没有任何的帮助。
“好了，大家接下来稍微休息一下，下午的话，就全部去一组实验室，协助一组完成接下来的工作.”
陈国华抬手，制止
…。。